| উদ্দেশ্য: | স্ট্রেন-মুক্ত দীর্ঘ কাজের দূরত্ব পরিকল্পনা অ্যাক্রোমেটিক উদ্দেশ্য | মঞ্চ: | ঘূর্ণনযোগ্য মেরুকরণ পর্যায় |
|---|---|---|---|
| ট্রান্সমিটেড ইলুমিনেটিং সিস্টেম: | 6V30W হ্যালোজেন, উজ্জ্বলতা নিয়ন্ত্রণ সক্ষম করে | আবেদন: | স্ফটিক, খনিজ, শিলা এবং ধাতুবিদ্যা |
| নাকপিস: | চতুর্গুণ (উদ্দেশ্যের কেন্দ্র সামঞ্জস্যযোগ্য) | ||
| বিশেষভাবে তুলে ধরা: | উল্টানো ধাতুবিশেষ মাইক্রোস্কোপ,ধাতুবিদ অপটিক্যাল মাইক্রোস্কোপ |
||
| উপাদান | এক্সপিএল-১ স্পেসিফিকেশন | এক্সপিএল-২ স্পেসিফিকেশন |
|---|---|---|
| চোখের পাতা | প্রশস্ত ক্ষেত্র WF10X (ক্ষেত্র নম্বরঃ Φ18mm) বিভাজক নজরদারি (ক্ষেত্র নম্বরঃ Φ18mm) 0.10mm/Div |
|
| স্ট্রেন মুক্ত পরিকল্পনা অ্যাক্রোম্যাটিক লক্ষ্যমাত্রা | • PL 4X/0.10 (W.D. 19.8 মিমি) • PL 10X/0.25 (W.D. 5.0 মিমি) • PL 40X/0.65 স্প্রিং (W.D. 0.66 মিমি) • PL 100X/1.25 স্প্রিং এবং তেল (W.D. 0.36 মিমি) |
• PL L4X/0.12 (W.D. 17.9 মিমি) • PL L10X/0.25 (W.D. 8.8 মিমি) • PL L40X/0.60 স্প্রিং (W.D. 3.73 মিমি) • PL L60X/0.70 স্প্রিং (W.D. 1.34 মিমি) |
| আলোকসজ্জা ব্যবস্থা | উজ্জ্বলতা নিয়ন্ত্রণ সহ 6V30W হ্যালোজেন আইরিস ডায়াফ্রাগম সহ Abbe condenser N.A. 1.25 |
|
| স্টেজ | ঘোরানো স্টেজ, ব্যাস Φ150mm, 360° স্নাতক (1° বৃদ্ধি) ন্যূনতম ভার্নিয়ার বিভাজনঃ 6', কেন্দ্রে টানার দিয়ে নিয়মিত |
|
| ফোকাস সিস্টেম | টেনশন সমন্বয় সঙ্গে সমাক্ষ ঘন / সূক্ষ্ম ফোকাস ন্যূনতম সূক্ষ্ম ফোকাসিং বিভাগঃ 2μm উপরের স্টপ ডিভাইস সহ |
|